Cerámica de alúmina avanzada ao 99,7 %
Cerámica de alúmina de alta pureza (Al)2O3:>99,7%)
-Placa de pulido de obleas de alúmina / mesa xiratoria
-Rodapé de alúmina de alta pureza de gran tamaño para equipos de fabricación de LCD
Material:
Alúmina de alta purezaAl2O3>99,7%
Aplicación:
Industrias de semicondutores, petróleo, química, fotovoltaica, LCD etc., como pezas mecánicas, pezas electrónicas, discos de indución de microondas, pezas de illamento. Tales como a fabricación de dispositivos semicondutores, equipos de baleiro, equipos de fabricación de cristal líquido e outros compoñentes. Por exemplo, a placa/mesa xiratoria de pulido de obleas de cerámica de alúmina de alta pureza de gran tamaño é un compoñente importante da CMP no pulido químico-mecánico, a placa base de alúmina para LCD.
Características:
Al de alta pureza2O399,7% -99,9%
Alta resistencia mecánica
Alta resistencia ao desgaste
Alto illamento eléctrico
Alta durabilidade química
Boa resistencia á calor e á corrosión
Vantaxe do fabricante:
Temos a propiedade intelectual independente do sistema de solidificación espontánea PIBM, producimos profesionalmente compoñentes cerámicos finos de alta calidade.
A nova tecnoloxía supera os problemas de deformación e rachaduras das pezas cerámicas húmidas de gran tamaño no proceso de preparación, e o rendemento do produto optimízase significativamente para as pezas cerámicas de gran tamaño preparadas por métodos tradicionais.
O pulido de obleas de cerámica de alúmina por lapeado de zafiro de Chemshun Ceramics está configurado como proceso de produción de PIBM. Trátase dunha tecnoloxía avanzada a nivel internacional. Os PIBM resolven con éxito o problema clave da fenda e a deformación das cerámicas de alúmina de gran tamaño. A tecnoloxía PIBM abrirá unha nova xanela para a cerámica fina. Non só producimos placas de pulido de obleas de cerámica de alúmina de alta calidade, senón tamén outras series de cerámicas de alúmina de alta pureza de gran tamaño, como substratos cerámicos de 1200x500x20 mm para equipos de fabricación de LCD, pistas de entrega de semicondutores, pezas de baleiro, pezas mecánicas xerais e cerámicas a proba de balas.
Forma e tamaño do produto
1. Placa/mesa xiratoria para pulir obleas de alúmina. Disco, tamaño do anel inferior a 850 mm, grosor de 45 mm.
2. Placa base de alúmina para LCD como receptores de soporte/placa portadora. Pode ter a forma de placa longa, barra longa, placa cadrada, placa delgada de tamaño inferior a 1500*600 mm, como por exemplo: 1200x500x20, 1400x900x30 etc.
3. Carrís guía por debaixo de 1000 * 45 * 45 mm.
4. Tubos baleiros, cilindros, tubos de baleiro eléctricos, etc. Con tamaño inferior a 300 ~ 600 × L500 mm.
5. Acéptanse produtos personalizados con pezas de varias formas.
Parámetro principal: (químico/físico):
| Propiedade | Elemento | Unidade | Cerámica Chemshun 99,7% de alúmina |
| Propiedades xerais | Compoñente principal | % en peso | 99,7-99,9 |
| Densidade | gm/cc | 3,94-3,97 | |
| Cor | - | Marfil | |
| Absorción de auga | % | 0 | |
| Propiedades mecánicas | Resistencia á flexión (MOR) 20 ℃ | Mpa(psix10^3) | 440-550 |
| Módulo elástico 20 ℃ | GPa (psix10^6) | 375 | |
| Dureza Vickers | Gpa (kg/mm2) R45N | >=17 | |
| Resistencia á flexión | GPA | 390 | |
| Resistencia á tracción 25 ℃ | MPa(psix10^3) | 248 | |
| Tenacidade á fractura (KI c) | Mpa* m^1/2 | 4-5 | |
| Propiedades térmicas | Condutividade térmica (20 ℃) | W/mk | 30 |
| Coeficiente de expansión térmica (25-1000 ℃) | 1x 10^-6/℃ | 7.6 | |
| Resistencia ao choque térmico | ℃ (∆Tc) | 200 | |
| Temperatura máxima de uso | ℃ | 1700 | |
| Propiedades eléctricas | Rixidez dieléctrica (1 MHz) | kV/mm ca (v/mil ca) | 8.7 |
| Constante dieléctrica (1 MHz) | 25 ℃ | 9.7 | |
| Resistividade volumétrica | ohmios-cm (25 ℃) | >10^14 | |
| ohmios-cm (500 ℃) | 2×10^12 | ||
| ohmios-cm (1000 ℃) | 2×10^7 |
Proceso de moldeo Proceso de acabado cerámico
Garantía de calidade:
Cada lote de produtos é inspeccionado no laboratorio da fábrica e no Centro Nacional de Inspección.
